ຄາບອນ Tetrafluoride (CF4) ອາຍແກັສທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ

1. ການຜະລິດ semiconductor: CF4 ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາເອເລັກໂຕຣນິກສໍາລັບຂະບວນການ etching plasma ແລະ vapor deposition (CVD). ມັນຊ່ວຍໃນການຕັດທີ່ຊັດເຈນຂອງ wafers ຊິລິໂຄນແລະອຸປະກອນອື່ນໆທີ່ໃຊ້ໃນອຸປະກອນ semiconductor. inertness ສານເຄມີຂອງມັນແມ່ນສໍາຄັນໃນການປ້ອງກັນປະຕິກິລິຍາທີ່ບໍ່ຕ້ອງການໃນລະຫວ່າງຂະບວນການເຫຼົ່ານີ້.

2. ອາຍແກັສ Dielectric: CF4 ຖືກນໍາໃຊ້ເປັນອາຍແກັສ dielectric ໃນອຸປະກອນໄຟຟ້າແຮງດັນສູງແລະແກັສສະຫຼັບ switchgear (GIS). ມີຄວາມເຂັ້ມແຂງ dielectric ສູງແລະຄຸນສົມບັດ insulating ໄຟຟ້າທີ່ດີເລີດເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກເຫຼົ່ານີ້.

3. ເຄື່ອງເຮັດຄວາມເຢັນ: CF4 ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ເປັນເຄື່ອງເຮັດຄວາມເຢັນໃນບາງຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ມີອຸນຫະພູມຕ່ໍາ, ເຖິງແມ່ນວ່າການນໍາໃຊ້ຂອງມັນຈະຫຼຸດລົງຍ້ອນຄວາມກັງວົນກ່ຽວກັບສິ່ງແວດລ້ອມກ່ຽວກັບທ່າແຮງຂອງຄວາມຮ້ອນຂອງໂລກສູງ.

4. Tracer Gas: ສາມາດໃຊ້ເປັນແກັດ tracer ໃນຂະບວນການກວດຫາການຮົ່ວໄຫຼ, ໂດຍສະເພາະໃນການລະບຸການຮົ່ວໄຫຼໃນລະບົບສູນຍາກາດສູງ ແລະ ອຸປະກອນອຸດສາຫະກໍາ.

5. Calibration Gas: CF4 ຖືກນໍາໃຊ້ເປັນອາຍແກັສ calibration ໃນເຄື່ອງວິເຄາະອາຍແກັສແລະເຄື່ອງກວດຈັບອາຍແກັສເນື່ອງຈາກຄຸນສົມບັດທີ່ຮູ້ຈັກແລະຫມັ້ນຄົງ.

6. ການຄົ້ນຄວ້າ ແລະ ພັດທະນາ: ນຳໃຊ້ເຂົ້າໃນການຄົ້ນຄວ້າ ແລະ ພັດທະນາຫ້ອງທົດລອງເພື່ອຈຸດປະສົງຕ່າງໆ ລວມທັງວິທະຍາສາດວັດສະດຸ, ເຄມີ, ແລະ ການທົດລອງຟີຊິກ.

ໃຫ້ສັງເກດວ່າຄໍາຮ້ອງສະຫມັກແລະກົດລະບຽບສະເພາະສໍາລັບການນໍາໃຊ້ວັດສະດຸ / ຜະລິດຕະພັນນີ້ອາດຈະແຕກຕ່າງກັນໄປຕາມປະເທດ, ອຸດສາຫະກໍາແລະຈຸດປະສົງ. ປະຕິບັດຕາມຂໍ້ແນະນຳຄວາມປອດໄພສະເໝີ ແລະປຶກສາຜູ້ຊ່ຽວຊານກ່ອນທີ່ຈະໃຊ້ວັດສະດຸ/ຜະລິດຕະພັນນີ້ໃນແອັບພລິເຄຊັນໃດນຶ່ງ.